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高內(nèi)涵圖像分析系統(tǒng)
PE Operetta CLS高內(nèi)涵成像分析系統(tǒng)
PerkinElmer公司Revvity/瑞孚迪品牌Operetta CLS系列高內(nèi)涵成像分析系統(tǒng)支持共聚焦或?qū)拡?chǎng)模式熒光、近紅外透射光明場(chǎng)和數(shù)字相差圖像采集工作模式,可對(duì)6-384孔微孔板及載玻片中細(xì)胞自動(dòng)快速高通量成像,并利用Harmony軟件進(jìn)行圖像處理和細(xì)胞水平的多參數(shù)圖像定量分析。
設(shè)備名稱:高內(nèi)涵成像分析系統(tǒng) High-Content Imaging System(HCI)
制 造 商:PerkinElmer, Inc 產(chǎn)地:英國
品 牌:Revvity(瑞孚迪)
型 號(hào):Operetta CLS
應(yīng)用配置方案見:【訂貨指南】
主要功能用途
PerkinElmer公司Operetta CLS高內(nèi)涵成像分析系統(tǒng)具有共聚焦或?qū)拡?chǎng)模式熒光、近紅外透射光明場(chǎng)和數(shù)字相差圖像采集工作模式,可對(duì)6-384孔微孔板及載玻片中細(xì)胞自動(dòng)快速高通量成像,并利用Harmony軟件進(jìn)行圖像處理和細(xì)胞水平的多參數(shù)圖像定量分析。應(yīng)用范圍包括:質(zhì)膜轉(zhuǎn)位、內(nèi)吞作用、細(xì)胞毒性、細(xì)胞凋亡、細(xì)胞周期和形態(tài)學(xué)、細(xì)胞遷移、細(xì)胞骨架重組、神經(jīng)元分析、蛋白表達(dá)分析、干細(xì)胞研究、RNAi篩選、細(xì)胞毒性分析、熒光原位雜交分析等。
性能特點(diǎn)
Operetta CLS高內(nèi)涵成像分析系統(tǒng)具有自動(dòng)對(duì)焦能力,與高速大幅面sCMOS相機(jī)相結(jié)合,可實(shí)現(xiàn)超大成像視野和超高圖像分辨率快速數(shù)據(jù)采集。Harmony 軟件集成有30 多種現(xiàn)成的數(shù)據(jù)分析方案(ready-made solutions, RMS),執(zhí)行最常用的圖像應(yīng)用分析,滿足全自動(dòng)細(xì)胞生物學(xué)圖像采集和高內(nèi)涵成像分析需求。
1、借助轉(zhuǎn)盤共聚焦技術(shù)和高能固態(tài)光源,多光束同時(shí)激發(fā)樣品,成像過程快且平穩(wěn),實(shí)現(xiàn)最低的光漂白和光毒性損傷,有利于活細(xì)胞和3D細(xì)胞高分辨率熒光成像。
2、無標(biāo)記活細(xì)胞數(shù)字熒光(DPC)模式成像
采用對(duì)細(xì)胞無毒且透射力強(qiáng)的740nm LED近紅外光源作為透射照明,采集活細(xì)胞明場(chǎng)圖像,實(shí)現(xiàn)與熒光效果相似的黑背景亮信號(hào)灰度圖像,完成細(xì)胞密度、計(jì)數(shù)、形態(tài)等分析,并對(duì)細(xì)胞的軌跡追蹤,對(duì)單個(gè)細(xì)胞運(yùn)動(dòng)特性進(jìn)行多參數(shù)分析。
3、采用高能固態(tài)激發(fā)光源
Operetta CLS系統(tǒng)配備固態(tài)高能量長壽命光源LED(365nm, 440nm, 475nm, 510nm, 550nm, 580nm,630nm, 660nm),可以選擇最合適的發(fā)射片,保證了圖像的高信噪比。
4、高靈敏度sCMOS相機(jī)提供超大成像視野和超高圖像分辨率
大靶面sCMOS相機(jī)傳輸噪聲低,動(dòng)態(tài)范圍高的,分辨率高,對(duì)短曝光時(shí)間短、靈敏度和定量要求高的實(shí)驗(yàn)尤為重要。
5、水浸物鏡的運(yùn)用
專利設(shè)計(jì)的全自動(dòng)水浸物鏡具備高數(shù)值孔徑(N.A.),光通量大(通光量是普通高數(shù)值孔徑空氣鏡的4倍之多),提供更高XYZ軸分辨率。可以使弱光強(qiáng)激發(fā)活細(xì)胞成像,最大程度避免光毒性損害,還可提高3D組織樣品的通光量,提高信噪比。
6、一體化的3D組織圖像采集分析
通過軟件實(shí)現(xiàn)成像過程中Z軸聚焦控制,實(shí)現(xiàn)對(duì)不同樣品不同高度平面圖像采集。利用智能投射功能,可在多張不同高度的照片中選擇最清晰、最明亮圖像,實(shí)現(xiàn)對(duì)3D組織掃描圖像的采集和分析。
從樣品制備-智能化成像-3D 數(shù)據(jù)可視化-3D 數(shù)據(jù)分析,具備從拍照到分析,以及邊拍照邊分析的功能。
可兼容多種3D 耗材模板,如低黏附力板、U 型板及各種微流控板以及各種2D、3D 芯片。
可編輯算法智能識(shí)別目標(biāo)區(qū)域3D 微球區(qū)域,一次掃描,獲取低倍全景,高倍高分辨率兩套圖像。
提供最大光強(qiáng)重建視圖,X-Y-Z 多層切正交視圖, 多種3D 重建渲染視圖,點(diǎn)擊任意角度層切視圖、多層細(xì)胞定位視圖。
可計(jì)算細(xì)胞體積、3D 表面積、3D 最大截面積、3D 球形程度、3D 投影面積、3D 球形內(nèi)徑、3D 球厚度及高度等參數(shù)。
7、Harmony圖像采集和數(shù)據(jù)分析軟件
Operetta CLS系統(tǒng)搭載的Harmony軟件功能強(qiáng)大而操作簡(jiǎn)便。從實(shí)驗(yàn)參數(shù)設(shè)置到全自動(dòng)圖像采集,再到數(shù)據(jù)分析、存儲(chǔ)直至分析結(jié)果的可視化導(dǎo)出,均可在Harmony軟件內(nèi)完成。
模塊化設(shè)計(jì)圖像分析軟件,提供大量圖像分析應(yīng)用方法。
軟件提供了管理板位、采集條件、分析結(jié)果以及關(guān)鍵詞和實(shí)驗(yàn)備注信息完備的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)功能。
Harmony和Columbus軟件與High Content Profiler(TIBCO Spotfire內(nèi)核)專業(yè)數(shù)據(jù)展示軟件實(shí)現(xiàn)無縫銜接,能夠?qū)⒏邇?nèi)涵篩選結(jié)果轉(zhuǎn)變成精確的、更易辨識(shí)和展示的生物學(xué)結(jié)果。利用High Content Profiler,可以利用最先進(jìn)的統(tǒng)計(jì)學(xué)算法、數(shù)據(jù)分類方法和機(jī)器自學(xué)習(xí)方法對(duì)數(shù)據(jù)結(jié)果進(jìn)行全面的質(zhì)控分析。
可提供的應(yīng)用分析模塊包括:
1)細(xì)胞計(jì)數(shù)或核計(jì)數(shù);
2)活/死細(xì)胞計(jì)數(shù);
3)核內(nèi)標(biāo)志物定量;
4)細(xì)胞質(zhì)標(biāo)志物定量;
5)質(zhì)膜標(biāo)志物定量;
6)胞質(zhì)向核遷移;
7)胞質(zhì)向膜遷移;
8)熒光重分配——細(xì)胞骨架;
9)Spot 分析;
10)核內(nèi)Spots;
11)細(xì)胞核分析——細(xì)胞核皺縮;
12)細(xì)胞核裂解分析;
13)細(xì)胞核分類——DNA 含量;
14)細(xì)胞形狀——細(xì)胞圓度;
15)有絲分裂指數(shù);
16)細(xì)胞周期分類;
17)受體內(nèi)化;
18)神經(jīng)細(xì)胞分析;
19)克隆形成;
20)微核分析;
21)遷移;
22)脂滴形成分析;
23)基于紋理的亞細(xì)胞結(jié)構(gòu)分割;
24)表型分析;
25)細(xì)胞分化;
26)細(xì)胞匯合率分析;
27)神經(jīng)生長——胞體精細(xì)分析;
28)在線質(zhì)量控制;
29)紋理分析——線粒體分群;
30)3D 微組織分析;
31)細(xì)胞軌跡追蹤;
32)細(xì)胞凋亡;
33)細(xì)胞周期一周期標(biāo)志物;
34)細(xì)胞毒性分析;
35)ESC克隆分析;
36)3D組織分析無標(biāo)記;
37)細(xì)胞PreciScan微組織分析;
38)細(xì)胞reciScan有絲分裂分析;
39)紋理分析模型,包括SER-Spot, SER-Hole,SER-Edge, SER-Ridge,SCR-Valley, SER-Saddle, 5ER-Bright, SER-Dark, smoothing, sliding parabola(紋理標(biāo)準(zhǔn):Kernel, Region,Indensity, Unnormalized)。
8、AI輔助的智能圖像分析功能
機(jī)器自學(xué)習(xí)功能:借助先進(jìn)的PhenoLOGIC機(jī)器自學(xué)習(xí)專利算法,簡(jiǎn)單的“點(diǎn)擊”選取幾個(gè)代表性的細(xì)胞,教導(dǎo)軟件識(shí)別不同的細(xì)胞類群或區(qū)域,軟件即可自動(dòng)學(xué)習(xí)細(xì)胞大小、形態(tài)、亞細(xì)胞結(jié)構(gòu),組織形態(tài)結(jié)構(gòu),信號(hào)分布差等參數(shù)。
STAR分析功能:由軟件對(duì)圖像進(jìn)行自主分析,無需任何人工干預(yù),可以自動(dòng)設(shè)定最佳參數(shù)對(duì)圖像進(jìn)行分區(qū)和細(xì)胞分型,對(duì)不同細(xì)胞表型組群給出關(guān)鍵特征參數(shù)的權(quán)重評(píng)價(jià)和統(tǒng)計(jì)結(jié)果。同時(shí)數(shù)據(jù)結(jié)果可以自動(dòng)輸出到Columbus圖像存儲(chǔ)與分析服務(wù)器,實(shí)現(xiàn)圖像數(shù)據(jù)的在線獲取、分析、儲(chǔ)存和共享。
參數(shù)優(yōu)化功能:可以手動(dòng)優(yōu)化分割參數(shù),也可以由軟件自動(dòng)給出最佳參數(shù)(Turning優(yōu)化法)
主要技術(shù)規(guī)格
檢測(cè)模式 | 寬場(chǎng)熒光、共聚焦熒光、明場(chǎng)、DPC數(shù)字熒光 |
成像光路 | 各種成像模式間可以自動(dòng)轉(zhuǎn)換\組合多模式成像方案 |
熒光光源 | 8波段高能免光線固態(tài)LED光源套件: 365nm(130mW) 405nm(230mW) 440nm(230mW) 475nm(110mW) 510nm(100mW) 550nm(170mW) 630nm(120mW) 660nm(250mW) |
發(fā)射光濾光片 | 8孔位電動(dòng)濾光片轉(zhuǎn)輪,12組濾片備選,支持條形碼識(shí)別 標(biāo)配發(fā)射濾光片/兼容的熒光染料 430 - 500nm:Hoechst 33342/Hoechst 33258/DAP1/CellMask Blue 500 - 550nm:CAlexa Fluor488/EGFP/MitoTracker Green/Fluo-4/FITC/Yo-Prol/Sapphire/Qdot 525 570 - 650nm:Alexa Fluor 568/PI/mCherry/Alexa Fluor 591/mKate, dTomato/TagRFP 655 - 760nm:DRAQS5/Qdot 705 |
明場(chǎng)光源 | 740nm LED光源對(duì)無標(biāo)記細(xì)胞進(jìn)行DPC數(shù)字熒光成像 (利用明場(chǎng)光源實(shí)現(xiàn)熒光級(jí)高信噪比成像) |
可對(duì)無標(biāo)記細(xì)胞圖像進(jìn)行計(jì)數(shù)、動(dòng)態(tài)追蹤和形態(tài)分析 | |
共聚焦模塊 | 微孔陣列式轉(zhuǎn)盤共聚焦 |
圖像檢測(cè)器 | 高靈敏度、高分辨率sCMOS相機(jī) |
470萬像素(2160×2160 pxls);單個(gè)像素尺寸:6.5μm×6.5μm | |
具備平場(chǎng)矯正功能,大視野圖像信號(hào)均一 | |
物鏡選項(xiàng) | 6位電動(dòng)物鏡轉(zhuǎn)輪,支持條形碼識(shí)別 |
空氣鏡:1.25x, 5x, 10x, 20X(NA或長工作距離可選);40x(高NA或長工作距離可選); | |
水浸物鏡:20X,40X,63X可選(自帶自動(dòng)補(bǔ)水循環(huán)系統(tǒng)) | |
電動(dòng)載物臺(tái) | 磁懸浮驅(qū)動(dòng)全自動(dòng)XY高精度電動(dòng)載物臺(tái),步進(jìn)50nm |
兼容各品牌的6-1536微孔板(標(biāo)準(zhǔn)尺寸) | |
可選配載玻片適配器,進(jìn)行組織切片或細(xì)胞爬片成像和分析 | |
活細(xì)胞用環(huán)境控制模塊 | 溫度控制范圍:37℃ - 42℃ ±1℃ |
CO2氣體濃度控制范圍:1-10% ±0.5% | |
DPC無標(biāo)記分析模塊 | 利用近紅外明場(chǎng)光源對(duì)無標(biāo)記細(xì)胞進(jìn)行拍攝,獲得近似熒光級(jí)別的高信噪比圖像(黑背景、亮信號(hào)) |
細(xì)胞三維掃描功能 | 軟件控制自動(dòng)化Z軸掃描,多種三維數(shù)據(jù)顯示方式 |
Max Projection功能,可在不同層面圖像中選取最明亮的圖像 | |
支持3D組織樣品的掃描成像和定量分析 | |
圖像紋理分析模塊 | 內(nèi)置8種紋理濾鏡模型,對(duì)非熒光強(qiáng)度的結(jié)構(gòu)變化進(jìn)行量化分析,并可對(duì)紋理處理后圖像進(jìn)行二次分析 |
機(jī)器自學(xué)習(xí)分析功能 | 可訓(xùn)練軟件自動(dòng)識(shí)別特定細(xì)胞,對(duì)細(xì)胞進(jìn)行分組,并給出形態(tài)特征 |
圖像工作站 | Intel雙六核處理器,32Gb內(nèi)存,2TB硬盤陣列,Windows 7 64bit操作系統(tǒng) |
云端數(shù)據(jù)分析管理服務(wù)器 | Columbus圖像云端服務(wù)器,實(shí)現(xiàn)圖像數(shù)據(jù)云端的存儲(chǔ)管理和分析,提供賬號(hào)密碼管理 支持移動(dòng)端接入(如iPAD等) |
自動(dòng)移液工作站 | 兼容PerkinElmer各型號(hào)液體工作站或高通量全自動(dòng)篩選平臺(tái) |
安裝運(yùn)行條件
Operetta CLS高內(nèi)涵成像分析系統(tǒng)在不超過2000米海拔的室內(nèi)使用
相對(duì)濕度范圍:35–70% (無冷凝)
工作環(huán)境溫度:20℃ - 25℃
工作電源:100-240 V, 50/60Hz,1KW
外形尺寸(W×D×H):980×660×470 mm
主機(jī)重量:180 kg
組成配置
Operetta CLS高內(nèi)涵成像分析系統(tǒng)工作配置由主機(jī)(HH16000001 Operetta CLS Base Unit)和可選附件組成。
Operetta CLS主機(jī)標(biāo)準(zhǔn)配置包括4.7 Mpx sCMOS傳感器相機(jī)、6位置電動(dòng)物鏡轉(zhuǎn)盤(最多可容納3個(gè)空氣鏡片和3個(gè)水浸物鏡)、8個(gè) LED 激發(fā)光源套件(HH16000202)、標(biāo)配4組熒光濾鏡、LED 740 nm透射照明單元(用于明場(chǎng)和數(shù)字相差成像)、寬場(chǎng)和共聚焦套件(HH16000102,含寬場(chǎng)圖像所需的所有光學(xué)元件和一個(gè)高速共聚焦針孔盤,寬場(chǎng)和共聚焦成像模式之間可切換轉(zhuǎn)盤盤可以移入或移出光路以進(jìn)行共聚焦采集)、Harmony Office 軟件圖像采集控制和集成30多種數(shù)據(jù)分析應(yīng)用功能插件的圖像處理分析包及儀器控制工作站。
此外系統(tǒng)標(biāo)配有環(huán)境控制套件(HH14000501),具有溫度(37-42℃)和CO2濃度(范圍1% - 10%)控制功能,適用于活細(xì)胞延時(shí)成像觀測(cè)。
標(biāo)準(zhǔn)20倍空氣物鏡(0.4 NA/8.28 mm WD/FOV 646 μm x 646 μm),此還可最多配置3組水浸物鏡及額外2組空氣物鏡(干式物鏡,無需浸油或浸水)。
系統(tǒng)配備有水浸物鏡自動(dòng)加水套件(HH14000420 Object pump kit Water)。水浸透鏡可提供比大孔徑數(shù)值空氣鏡頭更高的聚光效率,可獲得XYZ 軸的分辨率高于傳統(tǒng)鏡頭,在水溶液中對(duì)厚樣品進(jìn)行切片時(shí)減少球差。特別適合活細(xì)胞長時(shí)間成像過程中捕捉細(xì)胞內(nèi)部細(xì)微動(dòng)態(tài)變化。
除標(biāo)準(zhǔn)4四熒光濾鏡組外,可根據(jù)實(shí)驗(yàn)需要額外增選4組熒光濾鏡。
Harmony 軟件既是成像控制操作入口,同時(shí)也是全面圖像處理、管理和分析的平臺(tái)。集成有PhenoLOGIC模塊及數(shù)十種常規(guī)應(yīng)用分析功能插件。
訂貨指南
Operetta CLS高內(nèi)涵成像分析系統(tǒng)內(nèi)置獨(dú)特的寬場(chǎng)透射光成像、轉(zhuǎn)盤式共聚焦成像光路模塊,既可以用于無標(biāo)記活細(xì)胞,如培養(yǎng)板、細(xì)胞爬片、3D組織培養(yǎng)、類器官等樣品的透射光相差成像,又可可以采用共聚焦光路,實(shí)現(xiàn)高通量、高速度、高靈敏度、高分辨率的多通道熒光成像和厚組織樣品的三維切片圖像采集和3D圖像重構(gòu)。系統(tǒng)采用780nm波長近紅外激光光路和反饋控制光路,可實(shí)現(xiàn)長時(shí)間觀測(cè)期間自動(dòng)聚焦控制。
針對(duì)樣品和應(yīng)用側(cè)置點(diǎn)的不同,Operetta CLS提供了Operetta CLS FLEX、Operetta CLS LIVE兩個(gè)版本(注:Operetta CLS Quattro標(biāo)配為寬場(chǎng)成像光路,可通過加裝共聚焦轉(zhuǎn)盤升級(jí)為Operetta CLS FLEX)。
Operetta CLS FLEX標(biāo)配8個(gè)固態(tài)LED激發(fā)光源[355-385nm/?365nm (UV)、435-460nm/440nm (purple)、460-490nm/475nm (Blue)、490-515nm/510nm (green)、530-560nm/550nm (orange)、560-575nm/580nm (yellow)、615-645nm/630nm (red)、650-675nm/660nm (deep red)]和四組[430-500 nm (Blue)、500-550 nm (Green)、570-650 nm (Red)和655-760 nm (Deep red) ]熒光濾鏡。主要應(yīng)用于常規(guī)高分辨率、高通量圖像采集和高內(nèi)涵圖像分析。
Operetta CLS LIVE系統(tǒng)標(biāo)配活細(xì)胞延時(shí)動(dòng)態(tài)圖像采集功能所需的細(xì)胞培養(yǎng)環(huán)境(5% CO2濃度和37℃恒溫環(huán)境)控制單元,確保在長時(shí)程觀測(cè)期間,細(xì)胞維持正常的生長和生理狀態(tài)。此外,引入了20X、40X、63X倍率的高質(zhì)量水浸物鏡,與主機(jī)內(nèi)置的自動(dòng)補(bǔ)水系統(tǒng)配合,用于對(duì)活細(xì)胞內(nèi)部細(xì)微變化時(shí)圖像高分辨率采集。
Operetta CLS高內(nèi)涵成像分析系統(tǒng)采用的是6孔位自動(dòng)控制物鏡轉(zhuǎn)盤,最多可容納6個(gè)物鏡。系統(tǒng)標(biāo)配一20X 干式平場(chǎng)復(fù)消色差物鏡,故可用于其它干式物鏡和浸水物鏡的安裝孔位總數(shù)為5個(gè)。因此,Operetta CLS LIVE系統(tǒng)若選配3個(gè)水鏡,則干式物鏡最多還可從1.25x、5x、10x、40x、60x、100x中選配2個(gè)物鏡。
Operetta CLS高內(nèi)涵成像分析系統(tǒng)標(biāo)配的Harmony軟件包除用于圖像采集控制(包括細(xì)胞3D圖像采集構(gòu)建和3D圖像重構(gòu))、存儲(chǔ)管理的基本功能模塊外,已集成全部已開發(fā)的活細(xì)胞圖像分析有關(guān)應(yīng)用模塊,如細(xì)胞形態(tài)測(cè)量、細(xì)胞凋亡、細(xì)胞遷移、蛋白轉(zhuǎn)位、細(xì)胞紋理分析等30多個(gè)插件。對(duì)于公用共享平臺(tái),配置雙電腦主機(jī),便于前端圖像采集工作的同時(shí),后端進(jìn)行圖像數(shù)據(jù)的并行分析,提高系統(tǒng)平臺(tái)服務(wù)效率。
序號(hào) | 配置套裝 | 貨號(hào) | 套裝配置描述 | 報(bào)價(jià) |
1 | 3D細(xì)胞成像 高內(nèi)涵應(yīng)用套裝 | Operetta CLS FLEX | Operetta CLS High-Content Analysis System Configuration including: 1)Operetta CLS base unit Operetta CLS 8 LED Water Immersion Pump kit 2)Optional Air Objectives 5x Air Objective NA 0.16/WD 12.1 mm, plate thickness 0.17 mm 10x Air Objective NA 0.3/WD 5.2 mm, plate thickness 0.17 mm 40x Air Objective NA 0.6/WD 3.28 mm, plate thickness 0–1.5mm 40x Water NA 1.1/WD 0.62 mm, plate thickness 0.17 mm 3)Standard Emission Filters set Emission Filter set 430 - 500 nm Emission Filter set 500 - 550 nm Emission Filter set 570 - 650 nm Emission Filter set 655 - 760 nm 4)Optional Emission Filters set Emission Filter set 470 - 540 nm Emission Filter set 525 - 580 nm Emission Filter set 590 - 640 nm Emission Filter set 650 - 700 nm | 詢價(jià) |
2 | 活細(xì)胞成像 高內(nèi)涵應(yīng)用套裝 | Operetta CLS LIVE | Operetta CLS High-Content Analysis System for live cell applications Configuration including: 1)Operetta CLS base unit Operetta CLS 8 LED Water Immersion Pump kit 2)Optional Air Objectives 5x Air Objective NA 0.16/WD 12.1 mm, plate thickness 0.17 mm, FOV 2.58×2.58 mm 10x Air Objective NA 0.3/WD 5.2 mm, plate thickness 0.17 mm, FOV 1.29×1.29 mm 3)Optional Water Immersion Objectives 20x Water Objective NA 1.0/WD 1.7 mm, plate thickness 0.17 mm, FOV 0.65×0.65 mm 40x Water Objective NA 1.1/WD 0.62 mm, plate thickness 0.17 mm, FOV 0.32×0.32 mm 63x Water Objective NA 1.15/WD 0.6 mm, plate thickness 0.17mm, FOV 0.21×0.21 mm 4)Standard Emission Filters set Configuration Emission Filter set 430 - 500 nm Emission Filter set 500 - 550 nm Emission Filter set 570 - 650 nm Emission Filter set 655 - 760 nm 5)Optional Emission Filters set Configuration Emission Filter set 470 - 540 nm Emission Filter set 525 - 580 nm Emission Filter set 590 - 640 nm Emission Filter set 650 - 700 nm | 詢價(jià) |
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